在鍍鉻過程中陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關(guān)系。在同一溶液中鍍鉻時，通過調(diào)整溫度和電流密度，并控制在適當?shù)姆秶鷥?nèi)，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層。在低溫高電流密度區(qū)，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網(wǎng)狀裂紋、硬度大、脆性大;高溫低電流密度區(qū)，鉻層呈乳白色，這種組織細致、氣孔少，無裂紋，防護性能較好，但硬度低，耐磨性差;中溫中電流密度區(qū)或兩者配合較好時，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細而稠密的網(wǎng)狀裂紋。

　　當電流密度不變時，電流效率隨溫度升高而下降;若溫度固定，則電流效率隨電流密度的增大而增加。然而，當鉻酸酐與硫酸根離子比值減小時，變化相應(yīng)變小。因此鍍硬鉻時，在滿足鍍層性能的前提下，通常采用較低的溫度和較高的陰極電流密度，以獲得較高的鍍層沉積速度。溫度一定時，隨電流密度增加，鍍液的分散能力稍有改善;與此相反，電流密度不變，鍍液的分散能力隨鍍液溫度升高而有一定程度的減小。生產(chǎn)上一般采用中等溫度(45～60℃)與中等電流密度(30～45A/dm2)以得到光亮和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍?nèi)」饬铃儗拥墓に嚄l件相當寬，考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復(fù)雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時，欲在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴格控制溫度和電流密度。當鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化最好控制在土(1～2)℃之間。